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专业从事:精密金属蚀刻元件加工制造

PCB外层电路的蚀刻工艺


  在印制电路加工中﹐氨性蚀刻是一个较为精细和覆杂的化学反应过程, 却又是一项?#23376;?#36827;行的工作。 只要工艺上达至调通﹐就可以进行连续性的生产, 但关键是开机以后就必需保?#33267;?#32493;的工作状态﹐不适宜断断续续地生产。 蚀刻工艺对设备状态的依赖性极大, 故必需时刻使设备保持在良好的状态。 目前﹐无论使用何种蚀刻液﹐都必须使用高压喷淋﹐而为了获得较整齐的侧边线条和高质量的蚀刻效果﹐对喷嘴的结构和喷淋方式的选择都必须更为?#32454;瘛?br>   ?#26434;?#20248;良侧面效果的制造方式﹐外界均有不同的理论、 设?#21697;?#24335;和设备结构的研究, 而这些理论却往往是人相径庭的。 但是, 有一条最基本的原则已被公认并经化学机理分析证实﹐就是尽速让金属表面?#27426;系?#25509;触新鲜的蚀刻液。 在氨性蚀刻中﹐假定所有?#38382;?#19981;变﹐那么蚀刻的速?#24335;?#20027;要由蚀刻液中的氨(NH3)来决定。 因此, 使用新鲜溶液与蚀刻表面相互作用﹐其主要目的有两个﹕冲掉刚产生的铜离子及?#27426;?#20026;进行反应供应所需要的氨(NH3)。
  在印制电路工业的传?#25345;?#35782;里﹐特别是印制电路原料的供货商们皆认同﹐并得经验证实﹐氨性蚀刻液中的一价铜离子含量越低﹐反应速度就越快。 事实上﹐许多的氨性蚀刻液产品都含有价铜离子的特殊配位基(一些复杂的溶剂)﹐其作用是降低一价铜离子(产品具有高反应能力的技术秘诀)﹐可见一价铜离子的影响是不小的。 将一价铜由5000ppm降至50ppm, 蚀刻速率即提高一倍以上。
  由于在蚀刻反应的过程中会生成大量的一价铜离子, 而一价铜离子又总是与氨的络合基紧紧的结合在一起﹐所以要保?#21046;?#21547;量近于零是十分困难的。 而采?#38376;?#28107;的方式却可以达到通过大气中氧的作用将一价铜转换成二价铜, 并去除一价铜, 这就是需要将空气通入蚀刻箱的一个功能性的原因。 但是如果空气太多﹐又会加速溶液中的氨的损失而使PH值下降﹐使蚀刻速?#24335;?#20302;。 氨在溶液中的变化量也是需要加以控制的, 有一些用户采用将纯氨通入蚀刻储液槽的做法, 但这样做必须加一套PH计控制系统, 当自动监测的PH结果低于默认值时﹐便会自动进行溶液添?#21360;?br>
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